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产品介绍
PRODUCT DESCRIPTION

该设备主要采用化学气相沉积的方式来制备氧化物,有沉积速率快,膜层质量高的特点。在设备结构上,使用双门结构,提高装夹效率,采用最新液态供气系统,流量稳定可控,有效保证工艺稳定性。该设备所制备的膜层,具有良好的水汽阻隔性,在水煮测试中具备更长的稳定周期。

设备可适用于不锈钢、水镀五金件/塑胶件、玻璃、陶瓷等材质,如电子产品、LED灯珠、医药用品等需要抗氧化类产品。主要制备SiOx阻隔膜,有效阻隔水汽,防止腐蚀、氧化,提高产品寿命。

型号
内腔尺寸备注

ZHCVD1200

φ1200*H1950(mm)

设备可根据客户要求定制